Sheath LF Power에의한 Ion Bombardment

2021.06.24 22:36

PEOX 조회 수:2108

안녕하십니까 교수님!!.

가입없이 게시판으로 많은 가르침을 받아가다가 이제서야 질문이 있어 가입후 글을 쓰게 되었습니다.

 

PECVD에서..

HF는 electron 온도 증가로 인한 plasma density 향상

 

LF POWER의 증가는 ion bombardment 를 증가시켜 박막이 더 dense 해져 stress가 더 compressive쪽으로 간다라고 이해하는게 맞는 걸까요? 

density가 높아지는데 compressive한 stress를 가진다고 하는 매커니즘이 잘 이해가 되질 않습니다.

(density가 높으면 (더 빽빽하게 증착되면) 밀려서 사이드쪽으로 늘어날려고 해서 compressive 스트레스를 가진다라고 혼자 이해했는데 맞는건지요.

 

막질의 density가 올라가면 compressive한 스트레스를 가지는게 항상 그런건지

(원래 Tensile한 막질이더라도 LF power 증가하면 Compressive한 방향으로 바뀌나요?)

 

아니면 막질마다 그 효과가 다른건지 궁금합니다. 

 

 

 

추가로 HF영역에서는 frequency가 높으니 유효질량이 작고 mobility가 빠른 electron에 에너지를 더 가해주기 쉽고 

반대로 LF영역에서는  frequency가 낮으니 상대적으로 질량이 크고 느린 ion에 에너지를 가해주기 쉽다고 이해하는게 맞는걸까요?

 

 

 

질문자체에 잘 못된 점이 있다면 바로 잡아주시면 감사하겠습니다!.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77095
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20400
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68852
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92864
441 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3561
440 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3518
439 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3472
438 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3457
437 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3452
436 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3450
435 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3405
434 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3361
433 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3339
432 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3338
431 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3286
430 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3261
429 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3231
428 CVD 공정에서의 self bias [1] 3179
427 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3177
426 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
425 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3066
424 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3035
423 Plasma etcher particle 원인 [1] 3029
422 RF matcher와 particle 관계 [2] 3007

Boards


XE Login