Others Bias 관련 질문 드립니다.

2022.01.11 14:32

박준석 조회 수:3477

안녕하세요 교수님. 반도체 공정팀에서 근무하는 엔지니어입니다.

 

RIE 장비 Process 담당하게 되어 공부중인데

Recipe Tuning 중 Bias Select 모드에서, 

Bias 를 W 와 V 중 선택하게 되었는데 둘의 차이점이 궁금합니다.

 

또한 self bias와 관련이 있는지 답변해주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77138
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20425
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57335
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68873
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92897
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1279
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 708
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 615
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1498
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 494
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1108
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 602
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1023
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 600
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1076
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1576
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 908
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2082
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 851
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4173
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1159
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 984
645 plasma 형성 관계 [1] 1565
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 3014
» Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3477

Boards


XE Login