Chamber component chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
2023.07.08 03:24
안녕하세요, 플라즈마 설비를 담당하는 엔지니어입니다.
입사한지 오래되지않아 플라즈마 관련 공부에 정말 많은 도움이 되었습니다 감사합니다.
제 질문은 실제 챔버에 인가 되는 W값이 궁금한 것인데요, 다음과 같은 현상을 보던 중 생긴 의문입니다.
MATCHER에 대해 공부를 끝 마친 뒤, 실제 PECVD CHAMBER에 인가되는 POWER의 파형이 궁금하여 확인 해봤는데,
특정 상수값에서(ex: 1000W) 아주 미세하게 진동하는 Trend 였습니다.
이를 받아 들이기 힘든 이유는
1. 제가 기대했던 파형과 달랐습니다. 매칭을 끝 마쳤으므로 V와 I는 위상이 MATCHING 되어, 이 둘의 곱인 파형을 기대 했습니다.
matcher를 거친 Voltage signal은 sin wave 일 것이고, Current Signal 역시 마찬가지이니까요. 이 둘의 곱인 Power 역시 Wave 일텐데 그러지 않았습니다.
2. 만일 제가 모르는 DC POWER가 있다 할지라도, DC+AC SIGNAL을 인가 하는 것 이므로, 전기장의 방향은 항상 일정핱것이고 플라즈마가 유지되지 않을테니까요
3. RF 설비에서 플라즈마를 생성할 때, HF power의 Watt 값을 set 할 수 있는 것으로 알고 있는데, 이 값 역시 상수로 알고 있습니다.
이는 진폭을 의미하는 것 일까요?
AC POWER SUPPLY에 대한 이해가 부족한 것 같은데... 측정한 값 역시 이해하는데 어려움이 있어 질문 드립니다, 귀한 시간 내주셔서 진심으로 감사드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77146 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20426 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57335 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68879 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92901 |
742 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 342 |
741 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 354 |
740 | PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] | 357 |
739 | 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] | 370 |
738 | plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] | 372 |
737 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 376 |
» | chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] | 376 |
735 | 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate | 377 |
734 | RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] | 377 |
733 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 383 |
732 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 391 |
731 | 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] | 394 |
730 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 405 |
729 | 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] | 412 |
728 | PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] | 417 |
727 | CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] | 418 |
726 | standing wave effect, skin effect 원리 [1] | 419 |
725 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 | 425 |
724 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 427 |
723 | VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] | 430 |