안녕하세요~

반도체 관련 회사에 종사중으로 항상 이곳에서 많은 도움을 받다가 정말 궁금한게 있어 글 남깁니다

 

제가 알기로는 플라즈마 오프 시, 쉬스 내에 트랩되어있던 파티클들이 중력에 의해 챔버 바닥 혹은 히터/ESC 위에 있는 웨이퍼로 떨어지는 것으로 압니다

이때 1초만에 0으로 뚝 끄던걸 1-2초 혹은 더 이상으로 나눠서 꺼주면 , 즉 ramping 으로 off 하게 되면 (예를 들어 1000-400-0 이런식으로 몇초에 걸쳐 끔)

플라즈마가 약해질수록 엣지쪽 시스가 두꺼워지면서 플라즈마가 완전히 꺼질 시 플라즈마 내 있던 파티클들이 웨이퍼 옆으로 떨어져서 챔버 하부로 빠져나가는 개념으로 알고있는데 제가 알고있는게 맞을지? 아니라면 플라즈마를 나눠서 끌때 파티큹 측면에서 좋은점이 뭘지? 아니면 이론상 파티클과 상관없을지 의견주시면 감사하겠습니다!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77215
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92947
746 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24426
745 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24389
744 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24214
743 self Bias voltage 24135
742 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24127
741 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24004
740 플라즈마 쉬스 23990
739 Arcing 23879
738 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23791
737 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23483
736 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23432
735 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
734 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23282
733 DC glow discharge 23282
732 고온플라즈마와 저온플라즈마 23194
731 No. of antenna coil turns for ICP 23133
730 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23123
729 CCP/ICP , E/H mode 23114
728 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22957
727 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22862

Boards


XE Login