Others 플라즈마 밀도와 라디칼

2024.03.13 13:45

김준서 조회 수:341

안녕하세요, 플라즈마에 대해 공부중인 3학년 학부생입니다.

 

플라즈마 밀도는 탐침을 통해 전자의 밀도를 측정함으로써 계산한다고 알고 있습니다.

플라즈마는 준준성이므로, 사실상 이는 이온의 밀도와도 거의 비슷할 것으로 생각합니다.

그렇다면 라디칼의 밀도 또한 플라즈마 밀도와 비례하는 것이 맞나요?

 

전자&이온 밀도 증가<-비탄성 충돌을 일으킬만한 에너지를 가진(가속된) 전자가 충분하며, gas의 몰(mole)수도 충분함

<-따라서 라디칼의 생성 확률도 높음

 

추가적으로, Pressure가 플라즈마 밀도에 끼치는 영향이 궁금한데,

인터넷에서는 압력이 증가하면 기체 몰수가 증가하므로 그만큼 이온&라디칼이 많아진다고 설명하는 글이 많았습니다.

하지만 흔히 알려진 파셴법칙과 연결해서 생각해보면, 압력이 증가할수록 MFP 또한 짧아지기 때문에 그만큼 전자가 충분히 가속되지 못할 가능성이 있다고 생각합니다. 따라서 최대한의 플라즈마 밀도 구현을 위해서는 적절한 Pressure을 설정해 주어야한다고 생각하는데, 해당 분석이 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77180
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20452
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57350
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68888
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92928
784 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 124
783 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 125
782 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 133
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 138
780 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 146
779 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 146
778 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 147
777 Microwave & RF Plasma [1] 155
776 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 161
775 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 162
774 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 174
773 corona model에 대한 질문입니다. [1] 176
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 186
771 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 193
770 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 195
769 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 198
768 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 200
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 216
766 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 217
765 skin depth에 대한 이해 [1] 219

Boards


XE Login