Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19465 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
206 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 911
205 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 908
204 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
203 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 886
202 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 886
201 문의 드립니다. [1] 882
200 Self bias 내용 질문입니다. [1] 881
199 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 866
198 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 863
197 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 861
196 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 858
195 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 856
194 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 851
193 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 849
192 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 846
191 RF 파워서플라이 매칭 문제 843
190 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 834
189 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 832
188 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 828
187 라디컬의 재결합 방지 [1] 822

Boards


XE Login