Skip to content
플홈
오시는 길
누구
질문방
검색
전체
Plasma in general
DC glow discharge
Collision
Sheath
Ion/Electron Temperature
Others
Plasma Source
ATM Plasma
CCP
ICP
Remote Plasma
Water Discharge Plasma
Others
Chamber component
Matcher
ESC
Pulse operation
Shower head
Chamber Impedance
Others
Monitoring Method
OES
Langmuir Probe
VI(Impedance) Sensor
B dot
Others
Process
Etch
Deposition
Sputtering
Ashing
Others
Ion/Electron Temperature
플라즈마내의 전자 속도
2009.10.16 04:52
정용현
조회 수:21933
추천:145
플라즈마 장비 내의 bias를 100W 정도 주었을 때, 전자의 속도를 알 수 있을까요?
댓글
1
목록
번호
제목
조회 수
공지
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[282]
77189
공지
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
20457
공지
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
57356
공지
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
68897
공지
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
92938
225
H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
[2]
19448
224
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
30123
223
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
17213
222
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2]
34970
221
질문 있습니다.
[1]
18371
220
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1]
22642
219
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
25593
218
플라즈마 진단법에 대하여
[1]
20596
217
안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.
[1]
20270
216
UBM 스퍼터링 장비로...
[1]
20924
215
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1]
24913
214
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
24646
213
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2]
27234
212
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
41291
211
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
23430
210
석영이 사용되는 이유?
[1]
20056
209
surface wave plasma 에 대해서
[1]
18562
208
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
23280
207
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1]
21125
206
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2]
23790
Boards
Close Login Layer
XE Login
아이디
비밀번호
로그인 유지
회원가입
ID/PW 찾기
인증메일 재발송
Close Login Layer