안녕하세요

상압 플라즈마와 관련하여 몇가지 문의 드릴려고 합니다.

1. 헬륨 가스를 이용하여 상압 플라즈마를 발생 시켰을때, 헬륨 이온이 생성 될때 발생하는

    전자로 인하여 공기중의 다른 원소들이 이온화 된다고 알고 있습니다. 그럼 이온화된

    헬륨은 인체 또는 공기에 어떤 영향을 끼치는지 문의 드립니다.

 

2. 텅스텐을 세라믹으로 감싼 전극과 아노다이징 된 알루미늄 사이(0.5mm)에 물 미립자를 통과 시켜서

    -OH 라디칼 이온을 만들려고 했는데, 오존이 종종 발생 됩니다. 전극에서 전달된 에너지가

    -OH 라디칼 이온과 오존 중 어떤 걸 먼저 만들어 내는지 알 수 있을까 해서요..

 

우선은 두가지 문의 드립니다.

제 이메일 주소는 vngkgk11@gmail.com 입니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80786
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21599
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95310
324 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1567
323 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1566
322 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1563
321 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1563
320 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1557
319 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1556
318 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1555
317 MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1555
316 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1552
315 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1547
314 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1542
313 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1529
312 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1528
311 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1524
310 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1522
309 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1518
308 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1511
307 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1501
306 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1493
305 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1489

Boards


XE Login