Others VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다.
2012.09.07 03:25
안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.
플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.
질문
1.VPP가 어떤건지?
2.VDC가 어떤건지?
3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?
위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.
참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.
정말 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77222 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68902 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92950 |
806 | Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. | 12 |
805 | CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] | 25 |
804 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 27 |
803 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 37 |
802 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 44 |
801 | Druyvesteyn Distribution | 49 |
800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 54 |
799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 59 |
798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 61 |
797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 68 |
796 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 77 |
795 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 78 |
794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 83 |
793 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 86 |
792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 89 |
791 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 91 |
790 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 91 |
789 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 102 |
788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 112 |
787 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 120 |