Others O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다.
2017.02.22 22:41
안녕하세요 서울대학교 박사과정 학생입니다.
실험을 설계하는중 플라즈마 공정에 관해서 모르는 점이 많아서 여쭤봅니다.
O2 Plasma etch공정에서 저희가 sample이 받는 Total 플라즈마 에너지 혹은 etch rate을 일정하게
유지하면서 Power를 바꿔보고싶습니다. 가스 flow rate 와 가스 종류, 시간은 바꾸지 않고 power와 pressure만 컨트롤 해서 유지가 가능할까요? 이렇게 할 경우에 Power가 바뀔시 Pressure가 어떤식으로 바껴야 Plasma energy를 가능한 일정하게 유지할 수있는지를 알수있는 식이나 상관관계가 있나요?
예를 들어서, power: 50W, 에서 100W로 두배 올릴때 압력은 어떤 변화를 가지게 되나요?
정확한 수치를 계산하는 목적이 아닌 대략적으로라도 실험을 일관성 있게 진행하려는 목적으로 질문을 드립니다.
답변 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77207 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57360 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68900 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92945 |
| 526 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9559 |
| 525 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9539 |
| 524 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9273 |
| 523 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9271 |
| 522 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9063 |
| 521 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9028 |
| 520 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8942 |
| 519 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8809 |
| 518 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8791 |
| 517 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8775 |
| 516 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8670 |
| 515 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8636 |
| 514 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8635 |
| 513 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8587 |
| 512 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8585 |
| 511 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
| 510 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8158 |
| 509 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8132 |
| 508 | 고온 플라즈마 관련 | 8091 |
| 507 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8078 |