Others analog tuner관련해서 질문드립니다.

2017.03.07 16:14

kimsh92y 조회 수:667

안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side와 bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77192
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57356
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92938
365 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2024
364 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 2021
363 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2013
362 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1998
361 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1989
360 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1986
359 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1981
358 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1967
357 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1965
356 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1957
355 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1953
354 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1928
353 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1926
352 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1926
351 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1917
350 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1914
349 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1914
348 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1883
347 가입인사드립니다. [1] 1881
346 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1875
쓰기
태그

Boards

XE Login