Others O2 Plasma 에칭 실험이요
2019.01.30 14:20
안녕하세요. 회사에 다니고 있는 직장인입니다.
이번에 저희 회사 연구실에서 O2 Plasma를 이용하여 Carbon Film을 날리는 실험을 계획중에 있습니다.
그런데 Carbon Film이 Depo된 Wafer를 구하기가 쉽지가 않습니다..
혹시 Carbon 시편을 구할 수 있는 곳이라던가 연락처아시면
공유가 가능할까 싶어 너무나 간절한 마음에 여기에 이렇게 질문글을 작성합니다..
도움 부탁드리겠습니다..
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77098 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20403 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57312 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68853 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92868 |
481 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 770 |
480 | wafer bias [1] | 1150 |
479 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1154 |
478 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 520 |
477 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2043 |
476 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1052 |
475 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] | 1988 |
474 | PEALD관련 질문 [1] | 32653 |
473 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2300 |
472 | dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] | 3592 |
471 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1088 |
470 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 735 |
469 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 4033 |
468 | VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] | 429 |
467 | 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] | 2372 |
466 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1168 |
465 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1361 |
464 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 962 |
463 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2036 |
462 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2441 |