Matcher matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
2020.01.11 04:30
안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.
에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우
오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요
원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서
애를먹는 경우가 있습니다
매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77080 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20394 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57303 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68846 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92855 |
301 | Ar plasma power/time [1] | 1448 |
300 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1447 |
299 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1445 |
298 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1443 |
297 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1440 |
296 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1428 |
295 | poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. | 1428 |
294 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1424 |
293 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1421 |
292 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1410 |
291 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1409 |
290 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
289 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1396 |
288 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1394 |
287 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1394 |
286 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1390 |
285 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1375 |
284 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1373 |
283 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1360 |
282 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1358 |