Chamber Impedance Vpp, Vdc 측정관련 문의
2020.01.30 09:02
안녕하세요.
국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.
현재 저희 설비는 RF Bias와 Matcher를 사용하고있는데, 출력되는 parameter 중 Vpp, Vdc에 대해 궁금한 사항이 있어 질의를 드립니다.
Vpp, Vdc값들은 Matcher 출력단에서 측정하는 것으로 알고 있는데,
만약 Chuck의 Material 및 wafer의 재료가 달라졌을때 해당 값들이 달라지는데, 달라지는 이유에 대해서 궁금합니다.
Material의 유전율 및 Capasitance 특성 등이 Vpp, Vdc값에 영향을 줄 수 있는지요.
ex) Chuck의 코팅 두께가 달라진 경우 or Chuck의 코팅 material이 달라진 경우.
감사합니다. 새해복 많이 받으세요.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77314 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20508 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57416 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68965 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92991 |
| 530 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9564 |
| 529 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9540 |
| 528 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9287 |
| 527 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9275 |
| 526 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9075 |
| 525 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9038 |
| 524 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8949 |
| 523 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8858 |
| 522 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8816 |
| 521 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8789 |
| 520 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8705 |
| 519 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8654 |
| 518 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8649 |
| 517 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8592 |
| 516 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8586 |
| 515 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
| 514 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8166 |
| 513 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8135 |
| 512 | 고온 플라즈마 관련 | 8091 |
| 511 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8086 |