안녕하세요.


우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다


Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76891
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92717
439 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3552
438 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3495
437 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3460
436 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3448
435 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3444
434 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3435
433 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3368
432 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3344
» Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3334
430 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3331
429 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3249
428 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3248
427 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3212
426 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3171
425 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
424 CVD 공정에서의 self bias [1] 3154
423 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3060
422 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3015
421 Plasma etcher particle 원인 [1] 3013
420 RF matcher와 particle 관계 [2] 2982

Boards


XE Login