Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상

2021.07.29 15:44

공효준 조회 수:1545

안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다. 

박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?

영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77278
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68923
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92983
488 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1541
» 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1545
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1550
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1558
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1560
483 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1577
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1577
481 plasma 형성 관계 [1] 1590
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1606
479 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1644
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1655
476 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1685
475 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1692
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1698
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1710
472 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1716
471 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1717
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1720
469 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1728

Boards


XE Login