Etch RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?
2023.08.30 08:55
RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.
위에 현상에 대한 정보가 부족 하지만 답변 주셔서 감사합니다.
특이사항이 CF4, Ar Gas 에서는 위에 현상이 나타나지않으며 SF6 가스에만 위에 현상이 나타나는건 Gas의 특성이라고 보면될까요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77322 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20509 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57417 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68966 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92993 |
| 70 |
입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate
 | 378 |
| 69 | PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] | 375 |
| 68 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 358 |
| » | RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] | 347 |
| 66 | Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 | 347 |
| 65 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다.
[1] | 346 |
| 64 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 341 |
| 63 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 337 |
| 62 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 328 |
| 61 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 320 |
| 60 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 311 |
| 59 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 302 |
| 58 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 299 |
| 57 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 293 |
| 56 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 293 |
| 55 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 292 |
| 54 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 290 |
| 53 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 277 |
| 52 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 269 |
| 51 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 259 |