Plasma Source RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다.
2024.02.08 07:35
안녕하세요..
RF를 사용한 플라즈마를 만들때 RF는 파동형태로 전달이되며 임피던스가 맞지 안으면 반사되어 되돌아오는걸로 알고 있습니다.
RF도 교류이기때문에 전기공학에 쓰이는 전기처럼 전압,전류의 위상차로 인해 발생하는 무효전력이 power source로 되돌아 온다고 보면 될까요?아니면 RF(13.56MHZ)의 반사파를 설명할때 다른 원리로 설명을 해야할까요?
임피던스, 리엑턴스와 같은건 전기공학에 나오는 식으로 RF도 같이 설명이 가능한것 같은데 RF의 반사파(reflector power)는 무효전력 개념으로(공식) 설명(이해)을 해도 되는지가 궁금합니다..
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77207 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57360 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68900 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92945 |
| 806 | Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. | 8 |
| 805 | CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] | 19 |
| 804 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 22 |
| 803 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 36 |
| 802 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 38 |
| 801 | Druyvesteyn Distribution | 47 |
| 800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 53 |
| 799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 58 |
| 798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 60 |
| 797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 67 |
| 796 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 72 |
| 795 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 76 |
| 794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 82 |
| 793 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 86 |
| 792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 87 |
| 791 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 90 |
| 790 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 91 |
| » | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 102 |
| 788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 110 |
| 787 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 118 |