ICP ICP 플라즈마에 관해서
2004.06.19 15:58
안녕하세요.
늘 이곳에 와서 질문-응답의 열띤 글들과 학회 방문기를 잘 읽었는데 모두 없어졌다니 너무 가슴이 아프네요.
예전에 있었던 내용인 것 같은데 최근 실험을 하다가 부딪히게 되어 질문을 드립니다. 그때 미리 보았으면 좋았을 텐데.
ICP 플라즈마를 발생시킴에 있어서 CCP mode 와 ICP mode 의 차이가 어떻게 다른 것인지요? CCP mode를 마치 흔히 사용하듯이 기판(평판 기판)에 바이어스를 걸어줄때 발생하는 플라즈마처럼 생각하면 되는지요?
그리고 또하나 Matching box 에서 capacitance 를 접지시킬때와 그렇지 않은 경우 어떻게 차이가 나는지요?
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77189 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20457 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57356 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92938 |
45 | 이온과 라디칼의 농도 | 27052 |
44 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27234 |
43 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27665 |
42 | DBD란 | 27774 |
41 | 플라즈마 온도 | 27838 |
40 | 탐침법 | 27903 |
39 | sheath와 debye shielding에 관하여 | 27920 |
38 | esc란? | 28110 |
37 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28443 |
36 | 반도체 관련 질문입니다. | 28582 |
35 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] | 28600 |
34 | Arcing [1] | 28680 |
33 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 | 28964 |
32 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28983 |
31 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29405 |
30 | 플라즈마의 정의 | 29508 |
29 | matching box에 관한 질문 [1] | 29705 |
28 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29795 |
27 | 플라즈마 밀도 | 30069 |
26 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30123 |