Chamber Impedance 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련

2010.05.05 13:56

강철호 조회 수:27223 추천:167

안녕하십니까?
저는 RF관련한 챔버,매칭박스,제네레이터 관련한 업무를 시작하게된 강철호라고 합니다,
공정 진행중 여러가지 원인에 의한 챔버의 임피던스 변화를 RF 제네레이터와 매칭 시키기 위해 매칭 박스를
이용한는 것으로 알고 있습니다..
여기서 질문입니다.
챔버의 임피던스가 변한다는것이  임피던스가 증가하는것인지,감소하는 것인지, 또는 2가지 경우가  랜덤하게
진행 되는 것인지 궁굼합니다..
만약 임피던스가 증가한다면 매칭박스가 어떤 원리로 매칭박스+챔버의 임피던스를 50Ω 으로 매칭할수 있는지
모르겠습니다.
너무 기초적인 지식이 없어 열심히 공부하려고 하니  성의 있는 답변 부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76968
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20326
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57245
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68794
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92786
761 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 218
760 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 226
759 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 231
758 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 231
757 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
756 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 257
755 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 259
754 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 266
753 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 271
752 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 276
751 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 289
750 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 294
749 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 304
748 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 318
747 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 324
746 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 324
745 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 325
744 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 326
743 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 330
742 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 336

Boards


XE Login