Others 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제

2012.11.09 20:21

파르코 조회 수:6376

30 kW급 공동형 (양 극 모두 구리) 플라즈마 토치를 운전하는데, 음극에서 구리 소모가 상당히 심하네요. 원래 음압에서 운전하도록 설계된 토치인데, 저희는 약간의 양압 상태에서 운전하고 있습니다. 0.2 bar정도...

플라즈마 소스는 알곤가스를 사용합니다. 냉각은 13도로 들어가서 15도 정도로 나오니... 잘 되는 것 같은데.... 구리가 많이 나오네요.

이런 경우는 어떤 대처가 필요할 까요? 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77246
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20471
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57378
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68906
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92956
346 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1877
345 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1841
344 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1837
343 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1821
342 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1797
341 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1782
340 터보펌프 에러관련 [1] 1782
339 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1731
338 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1726
337 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1715
336 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1714
335 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1711
334 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1701
333 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1694
332 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1692
331 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1682
330 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1652
329 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1643
328 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
327 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1601
쓰기
태그

Boards

XE Login