Others RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성

2016.04.30 22:43

메탈 조회 수:4283

안녕하세요. 눈팅만 몇달을하다..한가지 질문해봅니다..답변이 언제될지모르겠지만..기다리겠습니다..우선좋은 자료를 쉽게설명해줘서 재밌게읽고 아해하고있습니다..궁금한게있는데요..
제가 반도체회사근무중인데..
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성이 궁금합니다..평가결과는 영향성이있는거같은데..어떻게 메카니즘을 풀어야할지 모르겠네요..

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20500
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68949
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
350 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3898
349 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
348 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3994
347 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4036
346 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 4038
345 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4045
344 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4066
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4099
342 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4185
» RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4283
340 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4353
339 플라즈마 색 관찰 [1] 4366
338 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4401
337 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4644
336 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4899
335 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5150
334 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5250
333 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5392
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5499
331 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5523
쓰기
태그

Boards

XE Login