Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.
2017.08.03 10:57
안녕하세요.
저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.
장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.
즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...
일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77240 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57374 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68903 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92951 |
| 306 | Ar plasma power/time [1] | 1455 |
| 305 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1451 |
| 304 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1451 |
| 303 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1450 |
| 302 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1443 |
| 301 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1442 |
| 300 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
 | 1440 |
| 299 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1434 |
| 298 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1433 |
| 297 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1429 |
| 296 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1417 |
| 295 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1414 |
| 294 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] | 1412 |
| 293 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1410 |
| 292 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1404 |
| 291 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1400 |
| 290 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1394 |
| 289 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1378 |
| 288 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1374 |
| 287 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1373 |