ESC ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
2020.10.16 19:25
교수님, 안녕하세요.
반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.
교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.
현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.
하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.
개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.
(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)
이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,
가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.
혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77189 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20457 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57356 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92938 |
585 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16973 |
584 | ICP 식각에 대하여... | 16939 |
583 | 플라즈마 처리 | 16939 |
582 | Virtual Matchng | 16860 |
581 | sputter | 16854 |
580 | nodule의 형성원인 | 16771 |
579 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16682 |
578 | 몇가지 질문있습니다 | 16583 |
577 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16522 |
576 | 플라즈마의 어원 | 16349 |
575 | 궁금해서요 | 16322 |
574 | 궁금합니다 [1] | 16181 |
573 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16084 |
572 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16055 |
571 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16024 |
570 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16010 |
569 | k star | 15958 |
568 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15923 |
567 | Sputter | 15902 |
566 | corona | 15895 |