Matcher Load position 관련 질문 드립니다.
2021.02.03 17:50
이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다.
주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다.
공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다.
RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)
Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요?
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77272 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20485 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57401 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68922 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92970 |
| 407 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 2414 |
| 406 | RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] | 2414 |
| 405 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2434 |
| 404 | 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] | 2445 |
| 403 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2447 |
| » | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2479 |
| 401 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2507 |
| 400 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2510 |
| 399 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2538 |
| 398 | Si Wafer Broken [2] | 2578 |
| 397 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2578 |
| 396 | 질문있습니다. [1] | 2596 |
| 395 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2599 |
| 394 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1]  | 2606 |
| 393 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2698 |
| 392 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2701 |
| 391 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2709 |
| 390 | PR wafer seasoning [1] | 2716 |
| 389 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2745 |
| 388 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2837 |