Plasma in general ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요?
2021.09.11 22:39
건식식각 방법에 크게 이온을 이용하는 스퍼터 식각과 라디컬을 이용하는 화학적 식각 그리고 이온, 라디칼 모두를 이용하는 RIE가 있는데 ICP와 CCP로 생성한 플라즈마를 이용해서 물리적,화학적,반응 이온성 식각을 진행하는것으로 이해하면 되는건가요??
차이점은 어떠한 가스를 넣느냐에 따라 물리적 식각만 이루어질수도 있고, 화학적 식각만 이루어질수도 있고, RIE식각만 이루어질 수도 있는건가요??
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76971 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20328 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57247 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68798 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92789 |
| 521 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9544 |
| 520 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9535 |
| 519 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9267 |
| 518 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9260 |
| 517 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9047 |
| 516 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9009 |
| 515 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8934 |
| 514 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8763 |
| » | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8750 |
| 512 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8732 |
| 511 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8624 |
| 510 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8622 |
| 509 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8604 |
| 508 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8585 |
| 507 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
| 506 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
| 505 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8149 |
| 504 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8128 |
| 503 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
| 502 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8060 |