Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
2023.12.18 02:36
안녕하세요.
Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!
Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는
전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?
400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?
감사합니다!
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76897 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57206 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68760 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92719 |
679 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 590 |
678 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 594 |
677 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 596 |
676 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 596 |
675 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 599 |
674 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 600 |
673 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 602 |
672 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 609 |
671 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 613 |
670 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 615 |
669 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 617 |
668 | RF Sputtering Target Issue [2] | 617 |
667 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 620 |
666 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 622 |
» | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 625 |
664 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 626 |
663 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 627 |
662 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 630 |
661 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 631 |
660 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 633 |