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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
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487 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1545
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1549
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1558
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1560
483 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1577
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1577
481 plasma 형성 관계 [1] 1590
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1606
479 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1644
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1655
476 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1685
475 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1692
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1697
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1710
472 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1716
471 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1717
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1720
469 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1728
468 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1737

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