공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[279]
| 77113 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20410 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57321 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68861 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92881 |
381 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 2301 |
380 |
RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문
| 2291 |
379 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 2287 |
378 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 2277 |
377 |
플라즈마볼 제작시
[1] | 2263 |
376 |
부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리
[1] | 2255 |
375 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2253 |
374 |
양극 코로나 방전에 대한 질문입니다.
[1] | 2182 |
373 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2157 |
372 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 2155 |
371 |
[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문
[2] | 2144 |
370 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 2129 |
369 |
Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법
[1] | 2127 |
368 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 2110 |
367 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 2079 |
366 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 2043 |
365 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 2036 |
364 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 2031 |
363 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
[1] | 2026 |
362 |
chamber impedance
[1] | 2022 |