안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 코로나 방전 공부를 하고 있는 대학원생입니다.

다름이 아니라 재질에 대해 질문 드리고 싶은데요,

저는 재질을 스테인리스, 황동, 텅스텐 3종류를 바꿔가면서 방전 실험을 했습니다.

제가 비슷한 글을 찾아본 결과 음극판의 2차 전자방출계수가 높은것 일수록 플라즈마 공간 유지에 좋다고 봤습니다.

그렇다면 재질이 바뀌면 전류-전압 그래프가 서로 다르게 나와야 되는게 아닌가 싶습니다.

하지만 재질을 바꿨을 경우 전류-전압은 그대로인데 풍속만 차이가 있었습니다. 여기서 풍속은 이온풍입니다.

즉 2차 전자방출계수 말고도 다른 요소에 의해서 전류-전압 그래프는 서로 같지만 풍속이 다르게 나오는 것 같습니다.

혹시 제가 모르는 다른 요소가 있거나 제가 잘못생각한 점이 있다면 설명해주시면 감사하겠습니다.

그리고 혹시 괜찮으시다면 양극판에서는 어떤 물성치가 플라즈마 공간에 영향을 주는지 추가적으로 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77227
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
386 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2324
385 etching에 관한 질문입니다. [1] 2301
384 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2294
383 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2293
382 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2270
381 플라즈마볼 제작시 [1] file 2268
380 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2260
379 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2187
378 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2173
377 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2166
376 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2158
375 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2157
374 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 2151
373 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2144
372 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2087
371 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2060
370 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2053
369 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2045
368 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2041
367 chamber impedance [1] 2030

Boards


XE Login