안녕하세요. 대기압 플라즈마 관련 회사를 다니고 있는 청년입니다.

최근에 보다 높은 밀도의 플라즈마를 얻기 위한 공부를 하고 있습니다.

플라즈마의 밀도가 높아지면 라디컬의 밀도도 높아지고 그에 따라 처리효과 (예를 들면 오염물 제거) 도 좋아 질 것이라고 생각합니다.

특허에 있는 방법으로는 반응기 자체를 가열 하는 방법이 있었습니다.

그외에 플라즈마 밀도를 높이기 위한 방법은 없는지 궁금합니다.

플라즈마에 대한 지식이 짧아 질문이 정확하지 못합니다. 죄송합니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77151
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20429
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57337
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92905
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2295
421 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2309
420 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2321
419 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2322
418 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2340
417 Wafer particle 성분 분석 [1] 2342
416 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2344
415 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2354
414 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2358
413 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2360
412 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2363
411 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2367
410 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2376
409 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2377
408 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2379
407 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2386
406 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2392
405 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2402
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2412
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2441

Boards


XE Login