Chamber Impedance chamber impedance [장비 임피던스 데이터]

2019.09.24 15:45

nok73 조회 수:2091

안녕하십니까? 교수님, 

 

ALD 챔버를 제작되기 전에 매쳐 설계를 해야 하는 상황이어서 질문 드립니다. 

알루미늄 챔버의 사이즈, 전극사이즈, 웨이퍼사이즈, 전극과 웨이퍼 간격, 압력등의 정보를 가지고 챔버임피던스 계산이 가능 한지요? 

또한 시뮬레이션 하는 툴이 있을까요? 

답변을 부탁 드립니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [314] 80566
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21559
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69967
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95166
484 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 4501
483 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4482
482 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4317
481 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4303
480 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4298
479 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4290
478 RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage] [2] 4271
477 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4223
476 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4128
475 Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4090
474 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4078
473 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4015
472 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 3973
471 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 3973
470 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 3973
469 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 3919
468 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 3869
467 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 3868
466 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3807
465 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 3795
쓰기
태그

Boards

XE Login