안녕하세요,

반도체 회사에서 CVD 장비 업무를 맡고 있는 이윤재입니다.

업무 중 CCP Type Chamber에 Warpage 심화 Wafer가 투입되었을 때,

Impedance I 가 Drop 되는 현상이 있었습니다.

이 때 이 원인을 파악하려고 하는데, 논문이나 과거 자료를 봐도 나오지가 않아서

질문을 드립니다..

Q. Warpage 심화 Wafer가 상대적으로 Flat한 Wafer 보다 Impedance Drop이 되는 원인은,

   Edge 쪽 ( Wafer와 Heater가 Contact 되지 않음) 이 문제가 되는 것으로 추정되는데

  정확한 원인이 무엇인지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20496
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68946
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
530 플라즈마 기초입니다 [1] 1302
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1303
528 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1323
527 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1328
526 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1337
525 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1346
524 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1352
523 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1352
» Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1375
521 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1378
520 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1379
519 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1380
518 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1386
517 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1400
516 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1402
515 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1407
514 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1412
513 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1414
512 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1420
511 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1431

Boards


XE Login