Plasma in general Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?
2023.06.23 11:23
안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.
어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.
Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데
RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?
알려주시면 감사하겠습니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77080 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20394 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57304 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68847 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92855 |
| 701 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 503 |
| 700 | Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] | 510 |
| 699 |
해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안
[1]  | 518 |
| 698 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 520 |
| 697 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 522 |
| 696 |
안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다.
[1] | 524 |
| 695 | 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] | 533 |
| 694 | self bias [1] | 549 |
| 693 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 550 |
| 692 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 553 |
| 691 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 554 |
| 690 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 558 |
| 689 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] | 560 |
| 688 | PECVD Uniformity [1] | 570 |
| 687 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 571 |
| 686 | 핵융합 질문 [1] | 574 |
| 685 | 활성이온 측정 방법 [1] | 575 |
| 684 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 576 |
| 683 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 591 |
| 682 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 592 |