안녕하세요, 교수님

다름이 아니라 N2 Gas를 활용한 Plasma에서 N+ 이온들의 반응성을 이용하여 불필요 막질을 제거하는 조건을 찾게 되었습니다.

실질적으로 N+ 이온들의 반응성이 상당히 좋은 편인지 궁금하여 질문남겨드립니다.
항상 답변 남겨주셔서 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20499
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68949
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
170 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 756
169 ICP 후 변색 질문 749
168 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 748
167 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 747
166 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 742
165 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 732
164 Polymer Temp Etch [1] 725
163 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 725
162 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 721
161 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 719
160 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 718
159 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 716
158 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 706
157 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 702
156 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 700
155 plasma 공정 중 색변화 [1] 698
154 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 694
153 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 691
» N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 687
151 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 672

Boards


XE Login