CCP 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
2023.08.08 16:33
안녕하세요.
CCP 설비에서 RF 주파수를 증가하면 플라즈마 밀도가 증가를 하고 주파수를 감소하면 이온에너지가 증가한다고 합니다.
이중에 플라즈마 밀도가 왜 증가하는지 알려주면 감사하겠습니다.
저는 Dry Etch 엔지니어 입니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77330 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20510 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57430 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68968 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92995 |
630 | sputtering | 18313 |
629 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18309 |
628 | PDP 에 대해서.. | 18308 |
627 | 플라즈마와 사용되는 기체선택 | 18275 |
626 | 마그네트론관 또는 그외반도체소자로 물을 고열증발가능? | 18218 |
625 | ICP에 대하여 | 18212 |
624 | 저온 플라즈마에 관한 질문 | 18201 |
623 | rotational vibration excitation | 18200 |
622 | 진로상담 | 18158 |
621 | 증착에 대하여... | 18114 |
620 | DBD plasma | 18106 |
619 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18059 |
618 | 플라즈마의 정의 | 18050 |
617 | Plasma Gas의 차이점 [1] | 18044 |
616 | 플라즈마를 알기위해서는 어떤것을 알아두는 것이 좋.. | 18024 |
615 | Plasma of Bio-Medical Application | 18010 |
614 | electrode gap | 17973 |
613 | 플라즈마 응용분야 | 17875 |
612 | QMA에서 electron beam의 generation 과정 [1] | 17867 |
611 | capacitively/inductively coupled plasma | 17832 |