공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[280]
| 77146 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20426 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57335 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68881 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92901 |
82 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22708 |
81 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22792 |
80 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22860 |
79 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22954 |
78 |
CCP/ICP , E/H mode
| 23092 |
77 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 23114 |
76 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 23128 |
75 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 23169 |
74 |
DC glow discharge
| 23275 |
73 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23278 |
72 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23349 |
71 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23427 |
70 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 23472 |
69 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23782 |
68 |
Arcing
| 23870 |
67 |
플라즈마 쉬스
| 23981 |
66 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
| 23996 |
65 |
self Bias voltage
| 24109 |
64 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
| 24126 |
63 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24204 |