안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77308
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68958
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
730 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 426
729 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 426
728 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 433
727 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 433
726 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 436
725 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 436
724 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 438
723 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 444
722 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 447
721 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 453
720 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 457
719 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 460
718 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 462
717 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 465
716 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 472
715 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 472
714 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 473
713 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 474
712 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 476
711 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 477

Boards


XE Login