Chamber Impedance chamber impedance
2019.09.24 15:45
안녕하십니까? 교수님,
ALD 챔버를 제작되기 전에 매쳐 설계를 해야 하는 상황이어서 질문 드립니다.
알루미늄 챔버의 사이즈, 전극사이즈, 웨이퍼사이즈, 전극과 웨이퍼 간격, 압력등의 정보를 가지고 챔버임피던스 계산이 가능 한지요?
또한 시뮬레이션 하는 툴이 있을까요?
답변을 부탁 드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77151 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20429 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57337 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92905 |
382 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2309 |
381 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2295 |
380 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2292 |
379 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2279 |
378 | 플라즈마볼 제작시 [1] | 2264 |
377 | Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] | 2257 |
376 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2256 |
375 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2183 |
374 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2161 |
373 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2160 |
372 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 2146 |
371 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 2133 |
370 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 2132 |
369 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2119 |
368 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 2084 |
367 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2044 |
366 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2040 |
365 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 2032 |
364 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2029 |
» | chamber impedance [1] | 2023 |