ICP 공정플라즈마

2019.10.27 18:33

sungsustation 조회 수:1179

교수님 안녕하세요. 플라즈마 공부하고 있는 학부생인데 기초가 많이 부족해서 질문드립니다.


1. 공정플라즈마에서 전자 온도가 이온, 중성기체의 온도 보다 매우 높은 이유는 무엇인지 궁금합니다.


2. 플라즈마에 유체방정식이 무엇이고 각 항의 의미가 어떻게 되는 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [293] 77384
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20522
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57462
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68988
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93011
» 공정플라즈마 [1] 1179
552 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1185
551 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1190
550 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1191
549 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1194
548 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1196
547 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1197
546 전자 온도 구하기 [1] file 1197
545 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1208
544 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1212
543 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1216
542 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1222
541 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1232
540 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1241
539 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1246
538 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1261
537 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1268
536 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1270
535 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1282
534 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1290

Boards


XE Login