안녕하십니까 김곤호 교수님

ESC를 공부하다가 어려운 내용이 있어서 이렇게 글을 올려봅니다.

전극 형태만 다르고 모두 같은 조건의 ESC중에 (interdigital 형식 전극과  Capacitor 형식의 전극이 큰 전극)

Chucking Force가 어떤 것이 높은지 궁굼합니다.

또 이 두가지의 장단점을 조금만 설명해 주시면 큰 도움이 될 것 같습니다.

대략적인 사진 첨부 드립니다. 컨펌 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [291] 77356
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20516
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57432
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68975
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93001
551 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1186
550 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1189
549 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1192
548 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1194
547 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1195
546 전자 온도 구하기 [1] file 1195
545 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1202
544 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1209
543 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1212
542 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1219
541 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1230
540 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1239
539 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1244
538 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1260
537 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1266
536 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1267
535 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1280
534 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1285
533 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1291
532 플라즈마 챔버 [2] 1299

Boards


XE Login