안녕하세요.


우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다


Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77308
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68956
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
370 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3351
369 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3361
368 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3406
367 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3454
366 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3471
365 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3499
364 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3510
363 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3519
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3566
361 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
360 ESC Cooling gas 관련 [1] 3598
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3625
358 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3630
357 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3658
356 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3716
355 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3727
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3767
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 3808
352 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3876
351 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3895

Boards


XE Login