Plasma in general 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항
2022.08.04 06:53
안녕하십니까
장비 업계에서 공정 담당을 하고 있는 엔지니어입니다.
이번에 Facing target sputtering(DC+RF dual)을 처음 접하여 진행중 동일 공정 조건으로 여러번 진행시
Dep 두께가 감소하는 현상과 함께 DC P/S 의 Voltage가 증가하고 A 가 감소하는 현상이 발생하였습니다.
물론 같은 W입니다.(Watt 제어)
Gas는 Ar 50sccm O2 1sccm, 타겟은 ITO입니다.
20분정도의 짧은 시간의 Sputtering이며 단 2일간의 공정사이에 Voltage가 500V에서 600V 올라가는 현상도 같이 발생합니다.
RF와 동시 사용시 발생하는 문제인지 처음 보는 현상이라 어렵네요
문의사항에 필요한 항목이 있으면 댓글 주시면 감사하겠습니다.
비슷한 경험이라도 있으신분은 댓글 주세요 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77089 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20396 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57306 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68849 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92860 |
721 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22786 |
720 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22706 |
719 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22640 |
718 | Peak RF Voltage의 의미 | 22625 |
717 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22585 |
716 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22557 |
715 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22264 |
714 | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22243 |
713 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22204 |
712 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22159 |
711 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22102 |
710 | 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 | 22010 |
709 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21960 |
708 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21925 |
707 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21775 |
706 | manetically enhanced plasmas | 21663 |
705 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21622 |
704 | ccp-icp | 21558 |
703 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21546 |
702 | F/S (Faraday Shield) | 21527 |