Plasma Source 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
2023.03.07 09:48
기초적인 질문이지만 답변 해주시면 정말 감사하겠습니다.
1. 챔버 시즈닝을 SiO2로 했을때, 플라즈마를 인가하면 플라즈마의 영향으로 챔버시즈닝이 각 O2-와 Si4+로 분해가 일어날수있나요?
일어난다면 흔한일일까요 ??
2. 1번과 같은 관점에서 플라즈마 gas를 각각 N2 , H2 로 인가한다면, 제가 생각하기에는 수소원자가 질량이 낮으니 O를 떼어 낼 만한 힘이 없어서 N2 는 1과같은 일이 발생할수 있을거 같고, H2는 힘들것 같은데 어떤것이 맞는지 궁금합니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76897 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57205 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68759 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92719 |
678 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20582 |
677 | 확산펌프 | 20525 |
676 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20484 |
675 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20437 |
674 | Langmuir probe tip 재료 | 20411 |
673 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20397 |
672 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20312 |
671 | 플라즈마 matching | 20265 |
670 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20264 |
669 | 형광등과 플라즈마 | 20256 |
668 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20215 |
667 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20211 |
666 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20067 |
665 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20040 |
664 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20015 |
663 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19843 |
662 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19787 |
661 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19767 |
660 | PM을 한번 하시죠 | 19732 |