안녕하세요, 교수님

다름이 아니라 N2 Gas를 활용한 Plasma에서 N+ 이온들의 반응성을 이용하여 불필요 막질을 제거하는 조건을 찾게 되었습니다.

실질적으로 N+ 이온들의 반응성이 상당히 좋은 편인지 궁금하여 질문남겨드립니다.
항상 답변 남겨주셔서 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 80059
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21455
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58244
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69837
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94885
684 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 667
683 플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리] [1] 670
682 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 672
681 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 672
680 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 678
679 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 681
678 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 690
677 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 693
676 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 698
675 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 702
674 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 705
673 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 711
672 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 724
671 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 731
670 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 732
669 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 742
668 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 746
667 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 749
666 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 757
665 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 760

Boards


XE Login