Others Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다.
2023.10.19 19:41
안녕하십니까
플라즈마 장비 관련하여 공부하던 중 아킹 관련하여 궁금증이 생겨 문의드립니다.
혹시 웨이퍼를 잡아주는 엣지링이나 전극의 소재 특성을 바꾸어 주어 방전 효과를 준다면 아킹을 줄일 수 있을지 문의드립니다.
추가로 엣지링의 전도도와 같은 특성을 변경한다면 쉬스 영역에 변화가 생길지도 문의드립니다.
( 전도도가 높을 때와 낮을 때 쉬스의 변화가 있는지 궁금합니다.)
아직은 지식이 많이 부족한 상태입니다. 많은 도움 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [287] | 77333 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20511 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57431 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68970 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92997 |
750 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24447 |
749 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24402 |
748 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24225 |
747 | self Bias voltage | 24144 |
746 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24127 |
745 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 24007 |
744 | 플라즈마 쉬스 | 23995 |
743 | Arcing | 23895 |
742 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23802 |
741 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23491 |
740 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23446 |
739 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23352 |
738 | DC glow discharge | 23290 |
737 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23287 |
736 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23210 |
735 | No. of antenna coil turns for ICP | 23153 |
734 | CCP/ICP , E/H mode | 23132 |
733 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23129 |
732 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22960 |
731 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22872 |