ESC Edge ring의 역할 및 원리 질문
2024.02.29 01:39
안녕하세요 교수님
반도체회사에서 icp type 설비(HDP)를 맡고 있는 직장인입니다.
ESC 관련 study 중 아래 사항들에 대해 궁금하여 질문드립니다.
edge ring의 역할이 ' wafer 가장자리 공정 균일도 제어 용의 부품' 이라는 것을 게시글을 보며 알게 되었습니다.
1. edge ring이 있을 때와 없을 때 어떤 차이가 있는지 알고 싶습니다.
2. Edgr ring을 쓰게되면 플라즈마 하부전극의 Cap을 조절되어 플라즈마 밀도변화와 Edge에서 아래로 휜 Sheath 구배를 Flat하게 변화시킨다는 것을 봤습니다.. ICP 구조 설비의 플라즈마 하부에서(ESC) edge영역의 cap 이 병렬로 추가 됨으로써, 쉬스구배가 왜 flat 해지는건지, 기존에는 edge에서 왜 아래로 휘었는지, CAp이 추가되어 왜 flat해지는지 알고 싶습니다. 플라즈마 강의들을 봐도 관련된 수식이나 원리는 찾기가 어려워 질문드립니다.
3. WAFER BURN 이슈가 있습니다. 게시글 내 PLASMA가 침투하여 플라즈마의 높은 온도에 의해 해당현상이 나타날 수 있다는 것을 알게 되었습니다. 어떤 원리로 PLASMA가 확산하는지 알고 싶습니다.
항상 감사드립니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77303 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20501 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57414 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68950 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
90 | 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] | 453 |
89 | 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] | 446 |
88 | H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] | 444 |
87 | VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] | 436 |
86 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 | 435 |
85 | PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] | 433 |
84 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 433 |
» | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 429 |
82 |
CURRENT PATH로 인한 아킹
[1] ![]() | 425 |
81 | 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] | 424 |
80 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 415 |
79 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 408 |
78 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 400 |
77 |
염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다.
[1] ![]() | 397 |
76 | plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] | 393 |
75 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 387 |
74 | 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] | 387 |
73 | RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] | 387 |
72 | chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] | 385 |
71 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 382 |