ICP ICP TORCH의 냉각방법
2004.06.21 15:30
질문 ::
ICP TORCH에 관하여 문의를 드립니다.
ICP TORCH를 이용 유리와 같은 물질을 가열하는 장치를 연구하고 있는데 TORCH의 구조는 COIL과 QUARTZ관으로 구성되며 QUARTZ관은 내경50mm정도입니다. GAS는 Ar을 사용하고 있는데 문제는 발생된PLASMA가 COIL내에서 발생되므로 QUARTZ관까지 녹는 현상이 발생됩니다. 코일은 3 -4 TURN으로 하였는데 코일밖에서 PLASMA를 발생시킬 수 는 없는지요? 아니면 QUARTZ관이 가열되지 않는 방법이 있는지 알고 싶습니다.
답변 ::
말씀하신 장치에 대해서는 직접 보지 않아 개념적인 답변을 드릴 수 밖에 없을 것 같습니다.
1 . 일단 안테나 coil을 냉각수로 냉각하도록 하십시오.
2. 입력 개스의 흐름을 유리관 벽에서 와류가 생겨 유리관으로 전달되는 열을 가급적 차단하도록
개스흐름을 조절하십시오.
일반적으로 이상의 방법을 사용하고 있습니다.
도움이 되었기를 바랍니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77121 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20415 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57326 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68864 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92886 |
| 581 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1023 |
| 580 |
langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1]  | 1025 |
| 579 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] | 1031 |
| 578 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1035 |
| 577 | 플라즈마 코팅 [1] | 1044 |
| 576 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1044 |
| 575 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1050 |
| 574 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1053 |
| 573 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1065 |
| 572 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1068 |
| 571 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1] | 1074 |
| 570 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1074 |
| 569 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1078 |
| 568 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1083 |
| 567 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1088 |
| 566 | Plasma Arching [1] | 1088 |
| 565 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1101 |
| 564 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1108 |
| 563 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1108 |
| 562 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1131 |