Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19362 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77196
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20460
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92943
186 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 821
185 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 818
184 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 815
183 플라즈마 충격파 질문 [1] 810
182 Collisional mean free path 문의... [1] 803
181 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 799
180 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 798
179 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 795
178 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 788
177 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 782
176 교수님 질문이 있습니다. [1] 776
175 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 772
174 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 770
173 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 770
172 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 767
171 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 758
170 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 755
169 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 754
168 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 752
167 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 749

Boards


XE Login