Others Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
2004.06.25 13:00
===============================<질문>============================
반도체 제조 장비 중 Dry Etch 장치의 Chamber내의 상부 전극의 역할과
Si 전극, Cabon 전극, Grpite 전극..등의 성분과 특성, Plasma 형성차이등,,,
에 대해서 설명 좀 해주세요...
=============================<답변>==============================
반응기에서 전극의 역할 중 가장 중요한 역항을 플라즈마 발생과
관련있다고 할 수 있습니다. 이런 관점이라면 전극으로 유입되는
이온에 의한 이차전자 방출량이 플라즈마 생성 효율에 밀접한
영향을 주게 됨으로 전극의 재질은 유입되는 이온 종 과 에너지에
따라서 얼마나 이차전자가 방출되는가 를 살펴보아야 합니다.
또한 이차전자의 방출과 아울러 전극 표면의 입자도 스퍼터링 되어
나오게 되며 이는 종종 반응에 불필요한 불순물 역할을 하게 됩니다.
이런 화학적 특성 또한 전극을 선택하는 요인이 되기도 합니다.
참고가 되었기를 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [292] | 77375 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20517 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57438 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68981 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93004 |
131 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20228 |
130 | 형광등과 플라즈마 | 20271 |
129 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20274 |
128 | 플라즈마 matching | 20304 |
127 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20321 |
126 | Langmuir probe tip 재료 | 20421 |
125 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] ![]() | 20421 |
124 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20450 |
123 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20494 |
122 | 확산펌프 | 20538 |
121 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20619 |
120 | Lissajous figure에 대하여.. | 20639 |
119 | Three body collision process | 20659 |
118 | 교재구입 | 20731 |
117 | 이온주입량에 대한 문의 | 20754 |
116 |
IEDF EQP에 대한 답변
![]() | 20814 |
115 | plasma cleanning에 관하여.... | 20859 |
114 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20930 |
113 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 21014 |